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Coauteurs
- T. Nojima東北大学Adresse e-mail validée de tohoku.ac.jp
- Andrea YoungProfessor, Physics Department, UCSBAdresse e-mail validée de physics.ucsb.edu
- Jianting YeZernike Institute of Advanced Materials, University of GroningenAdresse e-mail validée de rug.nl
- Jingyuan GeUniversity of ChicagoAdresse e-mail validée de uchicago.edu
- Yuichi KasaharaKyoto University, Tohoku University, University of TokyoAdresse e-mail validée de scphys.kyoto-u.ac.jp
- T.TaniguchiNational Institute for Materials ScienceAdresse e-mail validée de nims.go.jp
- Kenji WatanabeNational Institute for Materials ScienceAdresse e-mail validée de nims.go.jp
- Yuji NakagawaToshiba CorporationAdresse e-mail validée de toshiba.co.jp
- Toshiya IdeueThe University of TokyoAdresse e-mail validée de issp.u-tokyo.ac.jp
- Fangyuan YangVienna University of Technology (TU Wien)Adresse e-mail validée de tuwien.ac.at
- Masaro YoshidaRIKENAdresse e-mail validée de mp.t.u-tokyo.ac.jp
- Yijin ZhangInstitute of Industrial Science, The University of TokyoAdresse e-mail validée de iis.u-tokyo.ac.jp
- Sunao ShimizuToyama Prefectural UniversityAdresse e-mail validée de pu-toyama.ac.jp
- Kohama YoshimitsuISSP, The University of TokyoAdresse e-mail validée de issp.u-tokyo.ac.jp
- Yoichi YanaseKyoto UniversityAdresse e-mail validée de scphys.kyoto-u.ac.jp
- Wu ShiLawrence Berkeley National LaboratoryAdresse e-mail validée de lbl.gov
- Mohammad Saeed BahramyUniversity of ManchesterAdresse e-mail validée de manchester.ac.uk
- Erez BergWeizmann Institute of ScienceAdresse e-mail validée de weizmann.ac.il
- J I A LiBrown UniversityAdresse e-mail validée de brown.edu
- Xiaoxue LiuTsung-Dao Lee Institute, Shanghai Jiao Tong UniversityAdresse e-mail validée de sjtu.edu.cn