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Coauteurs
Volkmar DierolfLehigh UniversityAdresse e-mail validée de lehigh.edu
Jonathan D. PoplawskyOak Ridge National LaboratoryAdresse e-mail validée de ornl.gov
Atsushi NishikawaALLOS semiconductors GmbHAdresse e-mail validée de allos-semiconductors.com
Dolf TimmermanOsaka UniversityAdresse e-mail validée de mat.eng.osaka-u.ac.jp
Joosung KimSamsung Electronics, Samsung Advanced Institute of Technology (SAIT)Adresse e-mail validée de samsung.com
Eduardo AlvesFull Researcher, DECN, Instituto Superior Técnico, Universidade de LisboaAdresse e-mail validée de tecnico.ulisboa.pt
T. GregorkiewiczProfessor of Optoelectronic Materials, University of AmsterdamAdresse e-mail validée de uva.nl
Antonio CaprettiSurflyAdresse e-mail validée de uva.nl
Hyun S. KumYonsei UniversityAdresse e-mail validée de yonsei.ac.kr
Donghwa LeePohang University of Science and Technology (POSTECH)Adresse e-mail validée de postech.ac.kr
Wei Guo (郭炜)Western DigitalAdresse e-mail validée de wdc.com
Youngsoo ParkSoulbrain