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Coauteurs
Paul ShearingEngineering Science and ZERO Institute, University of Oxford, RAEng Chair in Emerging TechnologiesAdresse e-mail validée de eng.ox.ac.uk- Dan BrettElectrochemical Innovation Lab, UCLAdresse e-mail validée de ucl.ac.uk
- Thomas M M HeenanGaussion CEOAdresse e-mail validée de ucl.ac.uk
- Rhodri JervisUniversity College London, Electrochemical Innovation LabAdresse e-mail validée de ucl.ac.uk
- Donal P. FineganNREL Senior ScientistAdresse e-mail validée de nrel.gov
- Francesco IacovielloExperimental Manager in the Electrochemical Innovation Lab X-ray imaging facility, UCLAdresse e-mail validée de ucl.ac.uk
- Xuekun LuSenior lecturer at Queen Mary University of London, EPSRC Open Postdoc FellowAdresse e-mail validée de qmul.ac.uk
- Bernhard TjadenPhD in Chemical Engineering from University College LondonAdresse e-mail validée de ucl.ac.uk
- Dr. Yeshui ZhangUniversity of Aberdeen, UCL, University of LeedsAdresse e-mail validée de abdn.ac.uk
- Alexander RackEuropean Synchrotron Radiation FacilityAdresse e-mail validée de snafu.de
- Michael DrakopoulosLead Scientist at National Synchrotron Light Source 2, BNLAdresse e-mail validée de bnl.gov
- Gareth HindsNational Physical LaboratoryAdresse e-mail validée de npl.co.uk
- Nghia T. VoNational Synchrotron Light Source II, Brookhaven National Lab, USAdresse e-mail validée de bnl.gov
- Matt KeyserNRELAdresse e-mail validée de nrel.gov
- Adam BoyceUniversity College DublinAdresse e-mail validée de ucd.ie
- Jennifer Johnstone-HackRoyal Academy of Engineering Research Fellow, University of SheffieldAdresse e-mail validée de sheffield.ac.uk
- Oxana V. MagdysyukMax Planck Institute for Solid State ResearchAdresse e-mail validée de fkf.mpg.de
- Quentin MeyerFuel Cell Cluster Leader in the Nanoelectrochemistry group of University of New South WalesAdresse e-mail validée de unsw.edu.au
- Oluwadamilola O. TaiwoResearch Associate, Imperial College LondonAdresse e-mail validée de ucl.ac.uk
- Tobias NevilleUniversity College LondonAdresse e-mail validée de ucl.ac.uk
