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Paul I BartonLammot du Pont Professor Emeritus, MITAdresse e-mail validée de mit.edu
Herman J.M. KramerAssociate professor, Delft University of TechnologyAdresse e-mail validée de tudelft.nl
Richard D. BraatzEdwin R. Gilliland Professor, Massachusetts Institute of TechnologyAdresse e-mail validée de mit.edu
Brahim BenyahiaProfessor, Loughborough UniversityAdresse e-mail validée de lboro.ac.uk
Patrick HeiderDow ChemicalAdresse e-mail validée de dow.com
haitao zhangMITAdresse e-mail validée de sunovion.com
Johan GrievinkEm. hoogleraar Chemical Engineering TU DelftAdresse e-mail validée de tudelft.nl
Kiran Mathew ThomasConsultant, IRESC GlobalAdresse e-mail validée de irescglobal.com
Andrzej StankiewiczTU Delft, DSM, Industrial Chemistry Research Institute, Warsaw University of TechnologyAdresse e-mail validée de tudelft.nl
Klavs F.JensenChemical Engineering, MITAdresse e-mail validée de mit.edu
Allan S MyersonProfessor of the Practice of Chemical Engineering ,Massachusetts Institute of TechnologyAdresse e-mail validée de mit.edu
Shing Fung CHOW, AvivaThe University of Hong KongAdresse e-mail validée de hku.hk
Baggie W. NyandeThe Hong Kong University of Science and TechnologyAdresse e-mail validée de ust.hk
Timothy F. JamisonMITAdresse e-mail validée de mit.edu
Yu Gao(郜煜)University of Colorado Boulder | Hong Kong University of Science and TechnologyAdresse e-mail validée de colorado.edu
Ruipeng ChenRPG student, HongKong university of science and technologyAdresse e-mail validée de connect.ust.hk
Maryam KhodadadianDelft University of TechnologyAdresse e-mail validée de tudelft.nl
J. Ruud van OmmenProfessor of Chemical Engineering, Delft University of TechnologyAdresse e-mail validée de tudelft.nl
Jingwen Weng, IreneThe University of Hong KongAdresse e-mail validée de connect.hku.hk
Jiayuan WANGHong Kong University of Science and TechnologyAdresse e-mail validée de connect.ust.hk
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Richard Lakerveld
Associate Professor, Hong Kong University of Science and Technology
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