Создать свой профиль
Процитировано
Все | Начиная с 2020 г. | |
---|---|---|
Статистика цитирования | 13350 | 8162 |
h-индекс | 43 | 30 |
i10-индекс | 67 | 47 |
Общий доступ
Просмотреть все10 статей
3 статьи
доступно
недоступно
На основе финансирования
Соавторы
Soo Young ParkSeoul National UniversityПодтвержден адрес электронной почты в домене snu.ac.kr
Jiyoul LeeProfessor, Pukyong National UniversityПодтвержден адрес электронной почты в домене pknu.ac.kr
Dongho KimProfessor of Chemistry, Yonsei UniversityПодтвержден адрес электронной почты в домене yonsei.ac.kr
Johannes GierschnerDr. rer. nat., Senior Research Prof., IMDEA Nanoscience, Madrid (Spain). Orcid: 0000-0001-8177-7919Подтвержден адрес электронной почты в домене imdea.org
Dr Benjamin C.K. TeeNational University of SingaporeПодтвержден адрес электронной почты в домене nus.edu.sg
Jinsang KimProfessor of Materials Sci & Eng, University of MichiganПодтвержден адрес электронной почты в домене umich.edu
Ji Eon KwonSenior Researcher, Korea Institute of Science and Technology (KIST)Подтвержден адрес электронной почты в домене kist.re.kr
Gaurav GiriUniversity of VirginiaПодтвержден адрес электронной почты в домене virginia.edu
Moon Sung KangDepartment of Chemical and Biomolecular Engineering, Sogang UniversityПодтвержден адрес электронной почты в домене sogang.ac.kr
Hoichang YangInha UniversityПодтвержден адрес электронной почты в домене inha.ac.kr
Ji Whan KimSamsung Advanced Institute of TechnologyПодтвержден адрес электронной почты в домене samsung.com
Yue ZhaoProfessor of Chemistry, Université de SherbrookeПодтвержден адрес электронной почты в домене usherbrooke.ca
Подписаться![Jong Won Chung](https://usercontent.cljtscd.com/citations?view_op=view_photo&user=uTXQPQMAAAAJ&citpid=2)
Jong Won Chung
Samsung Advanced Institue of Technology
Подтвержден адрес электронной почты в домене samsung.com