บทความที่มีข้อกำหนดการเข้าถึงสาธารณะ - Kentaro Kawaiดูข้อมูลเพิ่มเติม
มีให้ใช้งานในบางที่: 2
Effects of polishing pressure and sliding speed on the material removal mechanism of single crystal diamond in plasma-assisted polishing
N Liu, K Sugimoto, N Yoshitaka, H Yamada, R Sun, K Kawai, K Arima, ...
Diamond and Related Materials 124, 108899, 2022
ข้อกำหนด: Japan Science and Technology Agency
Comparative study of GeO2/Ge and SiO2/Si structures on anomalous charging of oxide films upon water adsorption revealed by ambient-pressure X-ray photoelectron spectroscopy
D Mori, H Oka, T Hosoi, K Kawai, M Morita, EJ Crumlin, Z Liu, ...
Journal of Applied Physics 120 (9), 2016
ข้อกำหนด: US Department of Energy
แหล่งที่มาและข้อมูลกองทุนดำเนินการโดยโปรแกรมคอมพิวเตอร์โดยอัตโนมัติ